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高性能覆銅板發(fā)展趨勢及對環(huán)氧樹脂性能的新需求

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2015-09-17  來源:復合材料應用技術網  瀏覽次數:78
      討論、研究高性能覆銅板對它所用的環(huán)氧樹脂的性能要求,應是立足整個產業(yè)鏈的角度去觀察、分析。特別應從HDI多層板發(fā)展對高性能CCL有哪些主要性能需求上著手研究。HDI多層板有哪些發(fā)展特點,它的發(fā)展趨勢如何一一這都是我們所要研究的高性能CCL發(fā)展趨勢和重點的基本依據。而HDI多層板的技術發(fā)展,又是由它的應用市場一一終端電子產品的發(fā)展所驅動。
       20世紀90年代初,出現新一代高密度互連(High Density Interconnection,簡稱為HDI)印制電路板——積層法多層板( Build-UpMultiplayer printed board,簡稱為BUM)的最早開發(fā)成果。它的問世是全世界幾十年的印制電路板技術發(fā)展歷程中的重大事件。積層法多層板即HDI多層板,至今仍是發(fā)展HDI的PCB的最好、最普遍的產品形式。在HDI多層板之上,將最新PCB尖端技術體現得淋漓盡致。
       HDI多層板產品結構具有三大突出的特征:  “微子L、細線、薄層化”。其中“微孑L”是它的結構特點中核心與靈魂。因此,現又將這類HDI多層板稱作為“微子L板”。
       HDI多層板已經歷了十幾年的發(fā)展歷程,但它在技術上仍充滿著朝氣蓬勃的活力,在市場上仍有著前程廣闊的空間。
       HDI多層板的出現,是對傳統(tǒng)的PCB技術及其基板材料技術的一個嚴峻挑戰(zhàn)。同時也改變著CCL產品研發(fā)的思維。它引領著當今CCL技術發(fā)展的趨向,作為當今CCL技術創(chuàng)新的主要“源動力”,推動著CCL技術的快速發(fā)展。

資料下載:   高性能覆銅板發(fā)展趨勢及對環(huán)氧樹脂性能的新需求.pdf
 
 
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